近日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”及“公司”）披露三季报。报告显示，前三季度，公司实现营业收入39.77亿元，同比增长44.62%；归母净利润7.58亿元，同比增长12.72%；扣非净利润7.41亿元，同比增长15.84%。第三季度，公司实现营业收入15.73亿元，同比增长37.96%；归母净利润3.15亿元，同比增长35.09%；扣非净利润3.06亿元，同比增长31.41%，各项业绩数据呈现稳中有升的良好势头。
据悉，盛美上海是上海市政府科教兴市项目重点引进的集成电路装备企业，主要从事对集成电路制造行业至关重要的半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装设备以及硅材料衬底制造工艺设备等的开发、制造和销售。
公司自成立以来，始终秉持“技术差异化、产品平台化、客户全球化”的发展战略，积极发展自主创新，不断提升旗下新工艺、新技术的迭代研发。而研发投入力度直接反映企业对技术创新的重视程度，2021年—2023年，公司研发投入分别为2.78亿元、4.28亿元、6.58亿元；2024年前三季度，公司研发投入已达6.12亿元，整体呈现稳步上升态势。
除了在研发投入上不断加码，公司还不断完善研发团队架构，持续培养和引进全球行业内的专业人才。截至2024年9月30日，公司研发人员数量共917人，占公司员工总数的46.88%；公司及控股子公司拥有已获授予专利权的主要专利466项，其中境内授权专利176项，境外授权专利290项，发明专利共计464项。
得益于公司整体研发实力不断提升，公司新产品不断涌出。今年9月，公司推出新型Ultra C bev-p面板边缘刻蚀设备；8月，推出Ultra ECP ap-p面板级电镀设备，在新产品的加持下不仅丰富了公司面板级先进封装的产品线，更助力公司打开潜在市场；与此同时，公司其他设备同样取得新进展，涂胶显影Track设备和PECVD顺利进入客户端验证阶段；清洗设备产品Ultra C Tahoe取得重要性能突破，这是继公司在中国研发全球首创的SAPS兆声波清洗设备后，在中国研发的第二台全球首创的半导体关键设备，也是继2009年公司推出全球首创的SAPS兆声波清洗设备后，第二次改写关键核心半导体设备基本都是在中国以外的地方首次研发推出的历史。目前，SAPS及Tahoe产品预估占据全球可服务市场的30%份额，总体接近20亿美元，已成为公司进入海外市场的旗舰产品。
此外，盛美半导体设备研发与制造中心临港项目已于10月份正式落成投产。该项目拥有两座研发楼、两座厂房和一座辅助厂房，初步投产的A厂房配备有智能物流仓储系统，年产值可达到50亿以上，且还有提升潜力。至明年B厂房投产时，两座厂房可实现百亿产能。打破产能桎梏后，盛美上海平台化发展的实力将进一步提升，壮大公司对未来的经营信心。
11月11日晚间，公司披露关于向特定对象发行A股股票申请获得受理的公告。据募集说明书(申报稿)显示，盛美上海本次发行数量为43,615,356股(含本数)，不超过本次发行前公司总股本的10%，拟发行股票募集资金不超过人民币45亿元。
此次定增，盛美上海计划将募集资金投向研发和工艺测试平台建设项目、高端半导体设备迭代研发项目及补充流动资金。从长远角度来看，随着公司研发技术和产品多元化的不断提升，叠加临港项目未来实现全部投产，将深化盛美上海平台化发展，持续高筑公司竞争壁垒，从而为公司拓展更为广阔的市场发展空间。
